| 详细介绍： WB300采用专利高密度微波等离子技术，用于半导体生产中晶圆的清洁和等离子体预处理，微波等离子高度活性、高效，且不会对电子装置产生离子损害。 微波等离子体系统是下列用途的理想方式： 
等离子体表面改性
有机物表面等离子体清洁
邦定强度增强
等离子体刻蚀应用
等离子体灰化应用
增强或减弱浸润性
其它等离子体系统应用
>> 技术参数 ◆ 外形尺寸(不包括报警灯)
1000(W)×800(D)×1750(H)mm
◆ 仓体结构(石英，约20升)
Φ 245mm ×400Lmm
◆ 等离子发生器(德国)
频率2.45GHZ,功率0-1000W连续调节,可连续长时间工作
◆ 控制系统
触摸电脑+PLC全自动控制,采用欧姆龙、西门子等世界著名品牌电器元件，性能稳定可靠,并具有手动、自动两种模式
◆ 真空系统(真空压力PID闭环自动控制)
英国爱德华斡旋式干泵 GV40
美国MKS真空压力控制节流阀及薄膜式传感器
台湾气动真空角阀、充气阀、DN63不锈钢真空波纹管
◆ 充气系统
美国MKS高精度电子质量流量计(2路气体配制)
美国世伟洛克气体管路及接口组件，德国双级减压阀
日本SMC及CKD高真空气阀组件
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