详细介绍：电子级用水标准GB11446-1-89
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电子级用水标准GB11446-1-89 |
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化学指标单位: μg/L
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等 级
项 目 |
EW—Ⅰ |
EW—Ⅱ |
EW—Ⅲ |
EW—Ⅳ |
EW—Ⅴ |
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电阻率MΩ.cm.(25℃) |
18(最小17) |
15(最小12) |
10(最小8) |
≥2 |
≥0.5 |
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大于1μm微粒数 |
1 |
5 |
10 |
100 |
500 |
|
大于0.5μm微粒数 |
100 |
300 |
500 |
1000 |
2000 |
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细菌个数,最大值 个/mL |
1 |
5 |
10 |
50 |
100 |
|
总有机碳含量，最大值 |
50 |
100 |
200 |
1000 |
1000 |
|
二氧化硅总含量，最大值 |
2 |
20 |
50 |
100 |
1000 |
|
氯含量，最大值 |
0.5 |
2 |
10 |
100 |
500 |
|
铜含量，最大值 |
0.2 |
2 |
5 |
50 |
500 |
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钾含量，最大值 |
0.5 |
5 |
10 |
100 |
1000 |
|
钠含量，最大值 0 |
0.5 |
6 |
10 |
200 |
500 |
|
锌含量，最大值 |
0.2 |
2 |
10 |
100 |
500 |
|
铝含量，最大值 |
0.5 |
5 |
10 |
100 |
500 |
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铁含量，最大值 |
0.5 |
5 |
10 |
100 |
500 |
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钙含量，最大值 |
0.5 |
5 |
10 |
100 |
500 |
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苏州创新水业常年提供CX0.1-100T/H超高纯水（去离子水）处理装置，产水水质达到电子级用水标准GB11446-1-89
苏州创新水业生产0.01-100T/HCX系列各种工业产品冲洗用水处处理设备,如单晶硅、多晶硅行业硅片冲洗高纯水设备，电镀厂冲洗用纯水设备，镀膜玻璃清洗用高纯水处理设备，磁性材料清行用去离子设备，水钻水晶饰品冲洗用水设备，单晶硅多晶硅材料清洗高纯水设备、硅片酸洗超纯水处理设备，太阳能硅料、硅片清洗用高纯水设备等，24小时联系：13073396006，余小姐
各类工厂工业产品冲洗用水处理设备典型工艺流程：
● 预处理系统-反渗透系统-粗混床-精混床-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(传统工艺)
● 预处理-反渗透-EDI装置-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(新工艺)
● 预处理-一级反渗透-二级反渗透-EDI装置-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM) (新工艺)
● 预处理-反渗透-EDI装置-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象(≥5MΩ.CM)(新工艺)
● 预处理系统-反渗透系统-粗混合床-精混合床-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象 (≥15MΩ.CM)(传统工艺)
● 预处理系统-反渗透系统-粗混合床-精密过滤器-用水对象 (≥5MΩ.CM)(传统工艺)
水质标准：
国家电子级高纯水标准
设备特点：
为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量。在工艺设计上，取达到国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床系统(EDI电除盐系统)等。 系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性
我司与国内从多家光伏企业合作愉快
本公司生产从0.25吨/小时至100吨/小时等各种规格的全自动、半自动各种工业产品冲洗用水处处理设备，单晶硅多晶硅材料清洗用高纯水设备、硅片酸洗超纯水处理设备。
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